【南京纯水设备】半导体芯片用超纯水系统

芯片超纯水系统是为半导体制造提供高纯度水的设备，最新工艺主要包括预处理、反渗透、去离子处理、抛光处理等步骤，确保水质达到18.2MΩ*cm以上的超纯水标准，以满足精密科学实验和工业应用的需求。

1、预处理阶段

多介质过滤：去除大颗粒悬浮物。

活性炭过滤：吸附有机物和余氯，防止对反渗透膜的损害。

软化处理：去除钙镁离子，防止膜元件结垢。

2、反渗透阶段

双级反渗透：有效去除溶解盐和有机物，确保水质达到EDI模块进水标准。

3、去离子处理阶段

EDI技术：无须酸碱再生，环保且连续稳定产水。

混床离子交换：进一步去除离子，提高水质纯度。

4、抛光处理阶段

紫外线氧化：分解有机物，降低TOC含量。

5、配送与循环

采用闭环循环系统，防止水质污染，确保超纯水稳定供应。

6、废水处理与回用

对半导体制造产生的废水进行多级处理，实现高效、经济的处理，提高水资源利用率。

7、系统优势

采用EDI技术，无须酸碱再生，保护环境。

产水过程稳定连续，无复杂操作程序，降低安装和维护要求。

配备智能监控系统，实时监控设备运行状态和水质参数，实现远程管理。

超纯水系统为芯片生产提供必要的水质保障，影响芯片良率和性能，是半导体制造不可或缺的环节。南京反渗透纯水设备 南京EDI超纯水处理设备 南京工业纯水设备 南京实验室超纯水设备 南京医药纯化水设备 南京去离子水处理设备